상세 설명
DUV(Deep Ultraviolet, 193nm)는 ArF 레이저를 광원으로 사용하며, 액침(immersion) 기술과 다중 패터닝으로 미세화를 추구합니다. EUV(Extreme Ultraviolet, 13.5nm)는 플라즈마 광원에서 발생하는 극자외선을 사용하여 단일 노광으로 미세 패턴을 구현합니다. 이 탭의 해상도 계산기에서 광원(KrF·ArF·ArF 액침·EUV·High-NA EUV)과 k₁, 목표 반피치를 바꾸며 R = k₁·λ/NA 와 초점 심도를 계산하고, 목표 패턴을 한 번에 찍을 수 있는지(다중 패터닝이 필요한지) 확인합니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
DUV ArF 레이저(193nm)의 해상도 한계와 극복 방법
EUV(13.5nm) 광원 생성 원리와 반사형 광학계
해상도 계산기: R = k₁·λ/NA 로 광원별 반피치 비교, NA↑ 이면 초점 심도(DOF ∝ λ/NA²)가 더 빨리 얕아지는 맞바꿈
DUV 다중 패터닝 vs EUV 단일 노광의 장단점