상세 설명
실리콘 식각 과정을 3D로 시각화하여 식각 프로파일의 형성 과정을 직관적으로 이해합니다. 이온 에너지, 가스 유량, 압력 등의 파라미터를 조절하며 수직 프로파일, 테이퍼 프로파일, 보잉(bowing), 언더컷 등 다양한 식각 형상이 만들어지는 과정을 관찰합니다. 실시간 렌더링으로 파라미터 변화에 따른 프로파일 변화를 즉시 확인할 수 있습니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
식각 프로파일(수직, 테이퍼, 보잉, 언더컷) 형태별 특성
이온 에너지가 이방성에 미치는 영향 시각 확인
가스 유량·압력이 식각 속도와 프로파일에 미치는 영향
Over-etch와 Under-etch의 판별 기준