반도체 공정 시뮬레이터

상세 설명

이온주입에서 주입 에너지는 이온의 침투 깊이(Rp, projected range)를, 도즈량(Dose)은 주입 농도를 결정합니다. 이 시뮬레이터에서는 에너지(keV~MeV), 도즈(10¹²~10¹⁶ cm⁻²), 이온 종류(B⁺, P⁺, As⁺)를 선택하며 Gaussian 분포 프로파일이 어떻게 변하는지 실시간으로 확인합니다. ΔRp(straggle)에 따른 분포 폭 변화도 관찰합니다.

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