반도체 공정 시뮬레이터

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RF 매칭 네트워크

RF 전력 전달을 위한 임피던스 매칭 네트워크의 원리를 시뮬레이션합니다.

Plasma 중급~고급

상세 설명

RF 전력을 플라즈마에 효율적으로 전달하려면 임피던스 매칭이 필수적입니다. 플라즈마의 임피던스는 조건에 따라 바뀌므로, 매칭박스가 가변 커패시터 두 개로 정합을 맞춥니다. 이 탭의 매칭 네트워크는 고정 인덕터(L) 하나와 가변 커패시터 C1(튜닝)·C2(로드)로 된 L형입니다. 부하(플라즈마) 임피던스를 정한 뒤 C1·C2 를 돌려 입력 임피던스를 50Ω 에 맞추고, 반사 전력과 전력 전달 효율이 어떻게 바뀌는지 봅니다(RF 주파수는 데모에서 13.56 MHz 로 고정되어 있고 정식 버전에서 바꿉니다).

데모에서 잠긴 손잡이

RF 주파수 — 데모 화면에서는 회색으로 고정되어 있고 정식 버전(기관 서고)에서 조절할 수 있습니다. 나머지 손잡이는 데모에서 그대로 돌려 볼 수 있습니다.

이 탭에서 배울 수 있는 것

RF 임피던스 매칭의 필요성(반사 전력 최소화)
매칭박스 구조 — 고정 L + 가변 C1(튜닝)·C2(로드)
C1·C2 를 돌려 입력 임피던스를 50Ω 에 맞추는 순서
플라즈마 임피던스가 바뀌면 매칭점도 움직인다는 것

직접 체험해 보세요

Plasma의 RF 매칭 네트워크을(를) 지금 바로 사용해 볼 수 있습니다.

RF 매칭 네트워크 체험하기 정식 버전 알아보기
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