상세 설명
플라즈마 식각에서는 화학적 식각(Radical)과 물리적 식각(Ion bombardment)이 동시에 작용합니다. 이 두 메커니즘의 조합은 각각 단독으로 작용할 때보다 훨씬 높은 식각 속도를 만들어내는데, 이를 Synergy Effect라 합니다. 이 시뮬레이터에서는 Ion 에너지와 Radical flux를 독립적으로 조절하며 시너지 효과의 크기를 정량적으로 확인합니다.
원리 설명
이온·라디칼 시너지 — 따로는 5와 2인데 같이 쪼이면 왜 55가 될까 — 같은 계산으로 움직이는 단면 시뮬레이터와 함께 원리를 글로 정리한 페이지입니다.
데모에서 잠긴 손잡이
패턴 밀도 — 데모 화면에서는 회색으로 고정되어 있고 정식 버전(기관 서고)에서 조절할 수 있습니다. 나머지 손잡이는 데모에서 그대로 돌려 볼 수 있습니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
Chemical etching(Radical)과 Physical etching(Ion)의 차이
Synergy Effect: 1+1 > 2가 되는 메커니즘 이해
Ion 에너지와 Radical flux 비율에 따른 식각 특성 변화
Synergy Effect를 활용한 이방성 식각 프로파일 구현
Plasma의 다른 학습 탭
⚙️ Synergy Effect 실험
⚡ 플라즈마 기본 개념
🔬 파션 커브 시뮬레이션
📡 RF 매칭 네트워크
🏗️ CCP 시스템 구조
🔬 ICP 시스템 구조
🏭 플라즈마 장비 산업 응용