반도체 공정 시뮬레이터

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노광 장비 개요

Stepper, Scanner, EUV 장비 등 노광 시스템의 구조와 발전 과정을 학습합니다.

Lithography 중급

상세 설명

노광 장비는 마스크의 패턴을 빛으로 PR에 전사하는 핵심 장비입니다. 초기의 Contact/Proximity 방식에서 Stepper(축소투영), Scanner(스캔 방식)로 발전했으며, 현재 EUV(극자외선) 리소그래피가 최첨단 공정에 도입되고 있습니다. 이 탭에서는 각 노광 방식의 구조와 동작 원리, 해상도 한계를 비교합니다.

이 탭에서 배울 수 있는 것

Contact → Proximity → Stepper → Scanner 발전 과정
Stepper의 축소투영 방식과 Step & Repeat 동작 원리
Scanner의 슬릿 스캔 방식과 해상도 향상 원리
EUV 광원(13.5nm)의 특수성과 반사형 광학계

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Lithography의 노광 장비 개요을(를) 지금 바로 사용해 볼 수 있습니다.

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