이 시뮬레이터는 무엇인가
리소그래피(Lithography)는 마스크에 그려진 회로 패턴을 웨이퍼 위의 감광제(PR)에 전사하는 공정입니다. 반도체 미세화의 핵심 기술로, DUV(193nm)에서 EUV(13.5nm)로의 발전이 현재 진행 중입니다. 이 시뮬레이터에서는 PR 코팅의 RPM 최적화, DUV와 EUV 노광 방식 비교, Stepper와 Scanner 시스템의 차이, PSM 마스크 기술 등을 체험합니다.
공정 흐름에서의 위치: 리소그래피로 만든 PR 패턴은 이후 식각 공정에서 마스크 역할을 하여 회로를 형성합니다.
무엇을 배울 수 있나
- 포토리소그래피 8단계(HMDS~현상) 공정 흐름 이해
- PR 코팅 시 RPM, 점도, 시간이 균일도에 미치는 영향 체험
- DUV와 EUV 노광 기술의 원리 및 해상도 차이 비교
- Stepper와 Scanner 시스템의 동작 방식 차이 이해
- PSM(위상 반전 마스크) 기술의 진화 과정 학습
학습 경로
반도체 8대 공정 순서에 따른 학습 경로입니다. 순서대로 학습하면 공정 간 연관성을 이해하는 데 효과적입니다.
⚡ Vacuum 기초
🧽 웨이퍼 세정
🔥 Oxidation
💡 Lithography
⚡ Plasma
⚗️ Etching
📦 Deposition
⚛️ Implantation
🔌 배선검사패키징
데모에서 체험 가능한 기능
8단계 공정 설명, PR Coating RPM 시뮬레이션, DUV/EUV 노광 비교, Stepper vs Scanner, PSM 마스크, 퀴즈
정식 버전에서 확장되는 기능
OPC(광근접 보정) 시뮬레이션, 다중 패터닝(SADP/SAQP), 오버레이 정밀도 분석, EUV 펠리클 설계
정식 버전에서는 100개 이상의 시뮬레이터와 심화 학습 콘텐츠를 제공합니다.
탭별 상세 가이드
Lithography 시뮬레이터의 각 탭별 학습 내용을 자세히 알아보세요.