반도체 공정 시뮬레이터

Vacuum 기초 시뮬레이터

반도체 공정의 기본이 되는 진공 시스템의 원리와 펌핑 메커니즘을 인터랙티브 시뮬레이션으로 학습합니다.

입문~중급 (반도체 공정 초보자도 가능)

이 시뮬레이터는 무엇인가

진공(Vacuum)은 반도체 제조의 거의 모든 공정에서 필수적인 환경 조건입니다. CVD, PVD, 식각, 이온주입 등 대부분의 공정이 진공 상태에서 이루어지며, 진공도에 따라 공정 품질이 크게 달라집니다. 이 시뮬레이터에서는 진공 펌프의 동작 원리, 펌핑 속도와 도달 압력의 관계, 배관 설계가 진공 성능에 미치는 영향 등을 직접 조작하며 학습할 수 있습니다.

공정 흐름에서의 위치: 진공은 세정 이후 거의 모든 공정(산화, 증착, 식각, 이온주입)의 전제 조건이 됩니다.

무엇을 배울 수 있나

  • 진공의 정의와 반도체 공정에서의 중요성 이해
  • 로터리 펌프, 터보 펌프 등 진공 펌프의 동작 원리 학습
  • 펌핑 속도, 도달 압력, 가스 부하의 관계 파악
  • Conductance와 배관 설계가 진공 성능에 미치는 영향 분석
  • 공정별 요구 진공도(저진공~초고진공) 이해

학습 경로

반도체 8대 공정 순서에 따른 학습 경로입니다. 순서대로 학습하면 공정 간 연관성을 이해하는 데 효과적입니다.

데모에서 체험 가능한 기능

실시간 펌핑 시뮬레이션, 성능 특성 곡선 분석, 압력 세팅 실험, Conductance 계산, 배관 설계 최적화, 퀴즈

정식 버전에서 확장되는 기능

다중 펌프 조합 시뮬레이션, 리크 테스트 시나리오, 실제 장비 파라미터 기반 시뮬레이션, 공정 연계 진공 설계

정식 버전에서는 100개 이상의 시뮬레이터와 심화 학습 콘텐츠를 제공합니다.

탭별 상세 가이드

Vacuum 기초 시뮬레이터의 각 탭별 학습 내용을 자세히 알아보세요.

직접 체험해 보세요

Vacuum 기초 시뮬레이터를 지금 바로 사용해 볼 수 있습니다.

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