상세 설명
DUV(Deep Ultraviolet, 193nm)는 ArF 레이저를 광원으로 사용하며, 액침(immersion) 기술과 다중 패터닝으로 미세화를 추구합니다. EUV(Extreme Ultraviolet, 13.5nm)는 플라즈마 광원에서 발생하는 극자외선을 사용하여 단일 노광으로 미세 패턴을 구현합니다. 이 탭에서는 두 기술의 해상도, CD 균일도, 공정 복잡도를 직접 비교합니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
DUV ArF 레이저(193nm)의 해상도 한계와 극복 방법
EUV(13.5nm) 광원 생성 원리와 반사형 광학계
해상도 공식(R = k₁·λ/NA)에 따른 성능 비교
DUV 다중 패터닝 vs EUV 단일 노광의 장단점