상세 설명
플라즈마는 기체에 충분한 에너지를 가하면 전자와 이온으로 분리되는 "제4의 물질 상태"입니다. 반도체 공정에서는 RF 전력을 이용해 공정 가스를 이온화시킵니다. 이 탭에서는 플라즈마의 기본 물성(전자 온도, 이온 밀도, 디바이 길이), 생성 메커니즘, 반도체 공정에서의 역할을 체계적으로 정리합니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
플라즈마의 정의와 제4의 물질 상태 이해
전자-중성 분자 충돌에 의한 이온화 메커니즘
전자 온도, 이온 밀도, 디바이 길이 등 기본 물성
반도체 공정에서 플라즈마가 필요한 이유