상세 설명
플라즈마 식각에서는 화학적 식각(Radical)과 물리적 식각(Ion bombardment)이 동시에 작용합니다. 이 두 메커니즘의 조합은 각각 단독으로 작용할 때보다 훨씬 높은 식각 속도를 만들어내는데, 이를 Synergy Effect라 합니다. 이 시뮬레이터에서는 Ion 에너지와 Radical flux를 독립적으로 조절하며 시너지 효과의 크기를 정량적으로 확인합니다.
이 탭에서 배울 수 있는 것
Chemical etching(Radical)과 Physical etching(Ion)의 차이
Synergy Effect: 1+1 > 2가 되는 메커니즘 이해
Ion 에너지와 Radical flux 비율에 따른 식각 특성 변화
Synergy Effect를 활용한 이방성 식각 프로파일 구현
Plasma의 다른 학습 탭
⚙️ Synergy Effect 실험
⚡ 플라즈마 기본 개념
🔬 파션 커브 시뮬레이션
📡 RF 매칭 네트워크
🏗️ CCP 시스템 구조
🔬 ICP 시스템 구조
🏭 플라즈마 장비 산업 응용